书目详细信息
： 集成电路制造技术
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 978-7-313-18651-5:CNY88.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 310000 |
| 题名责任者项： | 集成电路制造技术/.张亚非, 段力编著 |
| 出版发行项： | 上海:,上海交通大学出版社:,2018 |
| 载体形态项： | 439页:;+图:;+26cm |
| 丛编项： | 前沿电子信息专业教材系列 |
| 提要文摘： | 本书主要讲述集成电路与微纳制造工艺技术, 既有基本原理和工艺技术的阐述, 也有国内外近期发展状况的介绍。本书把集成电路的工艺技术分类为图形化 (光刻)、加法 (薄膜的技术) 减法 (刻蚀技术) 乘除法 (离子注入、silicide) 及其集成电路工程学 (良率、可靠性) 和集成电路后勤工作 (超净间、IC衍生产业链) 几大类, 便于学生掌握、记忆和类推。 |
| 题名主题： | 集成电路工艺 |
| 中图分类： | TN405 |
| 个人名称等同： | 张亚非 编著 |
| 个人名称等同： | 段力 编著 |
| 记录来源： | CN 湖北三新 20190117 |